Silberionenimplantation

für die Biotechnologie, Medizintechnik, Pharmakaindustrie und Lebensmittelindustrie

Die Silberionenimplantation ist ein Verfahren der vakuumgestützten und plasmagestützten Oberflächentechnik.
Im Vakuum werden Silberionen durch elektrische Felder beschleunigt und in die betreffenden Oberflächen geschossen bzw. implantiert. Es handelt sich dabei nicht um den medizinischen Begriff der Implantation, sondern um ein physikalisches Verfahren.
Die Silberionen dringen in die Oberfläche ein und bleiben in einer bestimmten Tiefe mit einer etwa gaußförmigen Verteilung unter der Oberfläche zwischen den Atomen des Festkörpers stecken. Es handelt sich somit um eine Randschichtmodifizierung.
Im Kontakt mit Blut und Gewebe können die Silberionen an die Oberfläche antibakteriell wirken. Der Mechanismus ist in der Literatur beschrieben. Die Silberionen gehen nur in Lösung über, wenn elektrolytische Bedingungen an der Oberfläche gegeben sind.

Eigenschaften:

  • Randschichtmodifizierung im Bereich von ca. 1-2 µm
  • Oberflächenzustand bleibt erhalten
  • nachgewiesene Biokompatibilität
  • hohe antimikrobielle Wirksamkeit gegen multiresistente Keime (< log 4 Reduktion)
  • ca. 6 Jahr wirksam, wenn Oberfläche nicht zugesetzt wird
  • sterilisierbar mit allen Verfahren
  • zertifiziertes Verfahren (DIN EN ISO 13485:2003)

 Im Gegensatz zu Nanopartikel können die Silberionen nicht außerhalb von festen oder flüssigen Festkörperzuständen auftreten.

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